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Reihe Halbleiter-Materialforschung
 
 

Plasmaunterstützte Niedertemperaturprozesse für die Siliziumtechnologie Prozessentwicklung und DefektEngineering, Job, Reinhart, Bochum: Bochumer Uni.vlg., 2002.07.01, 252 S., ISBN 3934453-87-6, 94 Abb., Zugl.: Hagen, Univ., Habil., 2002, Stichwörter: Halbleiter, Materialforschung, Prozessentwicklung, Defekt-Engineering, Siliziumt echnologie, Halbleiter-Materialforschung, Bd. 1, ISSN 1610-045X, EUR 39